Litografia-makina Maskararen lerrokatzailea Argazki-grabatu-makina
Produktuaren aurkezpena
Esposizio-argi iturriak inportatutako UV LED eta argi-iturriaren moldaketa modulua hartzen ditu, bero txikia eta argi iturriaren egonkortasun ona duena.
Alderantzizko argiztapen-egiturak beroa xahutzeko efektu ona du eta argi-iturriaren hurbileko efektua du, eta merkuriozko lanpara ordezkatzea eta mantentzea erraza eta erosoa da.Handipen handiko eremu bikoitzeko mikroskopio binokularrarekin eta 21 hazbeteko pantaila zabaleko LCDarekin hornituta, bisualki lerrokatu daiteke.
Okularra edo CCD + pantaila, lerrokatze zehaztasun handikoa, prozesu intuitiboa eta funtzionamendu erosoa.
Ezaugarriak
Zatiak prozesatzeko funtzioarekin
Kontaktu-presioa berdintzeak sentsorearen bidez errepikagarritasuna bermatzen du
Lerrokatze hutsunea eta esposizio tartea digitalki ezar daitezke
Ordenagailu txertatua + ukipen-pantailaren funtzionamendua erabiliz, sinplea eta erosoa, ederra eta eskuzabala
Tira motako plaka gora eta behera, sinplea eta erosoa
Onartu hutseko kontaktuaren esposizioa, kontaktu gogorraren esposizioa, presio kontaktuaren esposizioa eta hurbileko esposizioa
Nano inprimaketa interfazearen funtzioarekin
Geruza bakarreko esposizioa gako bakarrarekin, automatizazio maila altua
Makina honek fidagarritasun ona eta erakustaldi erosoa du, bereziki egokia irakaskuntzarako, ikerketa zientifikoetarako eta unibertsitateetako fabriketarako.
Xehetasun gehiago
Zehaztapena
1. Esposizio eremua: 110 mm × 110 mm;
2. ★ Esposizioaren uhin-luzera: 365nm;
3. Ebazpena: ≤ 1m;
4. Lerrokatze-zehaztasuna: 0,8 m;
5.Lerrokatze-sistemako eskaneatzeko mahaiaren mugimendu-barrutiak gutxienez beteko ditu: Y: 10 mm;
6. Lerrokatze-sistemaren ezkerreko eta eskuineko argi-hodiak bereizita mugi daitezke X, y eta Z norabideetan, X norabidean: ± 5mm, Y norabidean: ± 5mm eta Z norabidean: ± 5mm;
7. Maskararen tamaina: 2,5 hazbete, 3 hazbete, 4 hazbete, 5 hazbete;
8. Laginaren tamaina: zatia, 2 ", 3", 4 ";
9. ★ Laginaren lodierako egokia: 0,5-6 mm, eta gehienez 20 mm-ko lagin-piezak onartzen ditu (pertsonalizatuta);
10. Esposizio modua: denbora (atzerako kontaketa modua);
11. Argiztapenaren ez-uniformitatea: ＜ % 2,5;
12. Eremu bikoitzeko CCD lerrokatze-mikroskopioa: zoom lentea (1-5 aldiz) + mikroskopio objektiboa;
13. Maskararen mugimendu-ibilbidea laginarekiko, gutxienez: X: 5mm;Y: 5mm;: 6º；
14. ★ Esposizioaren energia dentsitatea: > 30MW / cm2,
15. ★ Lerrokatze-posizioak eta esposizio-posizioak bi geltokitan funtzionatzen du, eta bi geltokiko serbo-motorrak automatikoki aldatzen dira;
16. Ukipen-presioa berdintzeak sentsorearen bidez errepikakortasuna bermatzen du;
17. ★ Lerrokatze hutsunea eta esposizio tartea digitalki ezar daitezke;
18. ★ Nano aztarna interfazea eta hurbiltasun interfazea ditu;
19. ★ Ukipen-pantailaren funtzionamendua;
20. Dimentsio orokorra: 1400mm inguru (luzera) 900mm (zabalera) 1500mm (altuera).
